에어로졸화 합금 분말 소재 개발 및 생산 전문 기업
기화, 수증기화, 수증기 결합, 원심 분무
전해법은 직류 전기를 이용하여 산화환원 반응을 일으키는 방법으로, 원리는 전류가 물질을 통과하면서 화학 변화를 일으키는 것입니다. 이 화학 변화는 물질이 전자를 잃거나 얻는(산화 또는 환원) 과정입니다. 전해 시 전기를 화학 에너지로 변환하는 장치는 전해조이며, 전해 과정은 전해 셀에서 진행됩니다.
탄열환원법은 일정 온도에서 무기 탄소를 환원제로 사용하여 진행되는 산화환원 반응 방법입니다. 이 반응은 높은 온도를 필요로 합니다.
"RF 플라즈마 구형화 기술은 플라즈마의 고온 특성을 이용하여 불규칙한 형태의 분말 입자를 플라즈마에 신속하게 가열하여 용융시키는 기술입니다. 용융된 입자는 표면 장력과 극한의 온도 구배의 작용으로 신속하게 응고되어 구형 분말을 형성합니다. 플라즈마는 높은 온도, 큰 플라즈마 토치 부피, 높은 에너지 밀도, 전극 오염 없음, 빠른 열전달 및 냉각 속도 등의 장점을 가지고 있어, 균일한 성분, 높은 구형도, 우수한 유동성을 가진 고품질 구형 분말을 제조하는 좋은 방법입니다. 특히 희귀 난용 금속, 산화물, 질화물, 탄화물 등의 구형 분말 제조에서 두드러진 장점을 보입니다. 생물 의료, 항공 우주 등 분야에서 희귀 난용 금속 3D 프린팅 분말에 대한 수요가 급증하고 있으며, 전통적인 제조 방법은 이러한 요구를 충족하기 어렵습니다. 국산 분말 재료는 산소 함량이 높고, 구형도가 낮으며, 입자 크기 분포가 넓고, 배치 안정성이 떨어지는 공통적인 문제를 가지고 있습니다. RF 플라즈마 구형화 기술로 개발된 타이타늄 분말, 탄탈럼 분말, 텅스텐 분말, 크롬 분말, 주조 탄화텅스텐 분말 등 일련의 고품질 구형 분말 재료는 분말 수율이 낮고 나노 분말 표면 부착 등의 기술적 문제를 해결하여 수입 동종 분말을 부분적으로 대체할 수 있는 가능성이 있으며, 국내 항공 우주, 생물 의약, 석유 및 가스 탐사, 원자력 산업 등 분야의 긴급한 수요를 충족할 수 있는 좋은 시장 전망을 가지고 있습니다."
화학 기상 증착(CVD)은 화학 기체 또는 증기가 기판 표면에서 반응하여 코팅 또는 나노 재료를 합성하는 방법으로, 반도체 산업에서 다양한 재료를 증착하는 데 가장 널리 사용되는 기술입니다. 여기에는 광범위한 절연 재료, 대부분의 금속 재료 및 금속 합금 재료가 포함됩니다. 이론적으로는 매우 간단합니다: 두 가지 이상의 기상 원료가 반응 챔버에 도입되고, 그들 사이에서 화학 반응이 일어나 새로운 재료가 형성되어 웨이퍼 표면에 증착됩니다. 질화 실리콘 막(Si3N4) 증착이 좋은 예로, 이는 실란과 질소가 반응하여 형성됩니다.
카보닐법은 화학 이동 반응 원리를 이용한 정제 방법입니다. 고순도의 니켈, 철 등을 생산하는 데 사용되며, 그 제품으로는 니켈 구슬, 니켈 분말, 철 분말 등이 있습니다.
분말은 일반적으로 크기가 1mm 미만인 이산 입자의 집합체를 의미합니다.
분말의 각종 기본 물리 지표를 의미합니다. 일반적인 분말 규격에는 입자 크기(또는 평균 입자 크기), 비표면적, 분포 등이 포함됩니다. 이 외에도 분말 규격에는 입자 형태, 밀도, 탄소 함량 등 다양한 지표가 포함될 수 있습니다.
위성 분말은 작은 크기의 분말이 큰 크기의 분말 표면에 부착되어 위성 모양의 분말 구조를 형성하는 것을 의미합니다.
프리 합금 분말(pre-alloyed powder)은 설계된 성분 비율에 따라, 화학적 제련법 등의 방법을 통해 금속을 특정 입도 크기의 합금 분말로 제조한 것입니다.
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주소: 제 301 호, 제 39 호, 후난 성 창사 시, 랴동 유구 산업 단지
